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    立式低溫恒溫槽對半導體制造裝置發(fā)熱部的冷卻：單晶片洗凈轉載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。對激光裝置發(fā)熱部分的冷卻：激光加工、熔接機的發(fā)熱部分、激光標志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機等。

 

    立式低溫恒溫槽常見問題：

 

    1、水循環(huán)使用了一年多都很正常，可現(xiàn)在制冷速度好像越來越慢了，在氣溫越高時越明顯？

 

    答：水循環(huán)使用很簡單，但是定期的維護保養(yǎng)工作還是不能忽視的。有很多看似故障的毛病其實就是沒有定期做維護保養(yǎng)引起的。水循環(huán)自身的電功率和制冷劑從負載中帶走的熱量都需要從前通風罩處的散熱器中排走，如果前通風罩上吸滿灰塵和柳棉等就會妨礙這些熱量的散發(fā)，制冷效果將大打折扣。一般來說在正常的使用條件下制冷量下降都是因為通風散熱效果太差或環(huán)境溫度太高引起的。

 

    2、水循環(huán)以前使用都很正常，可現(xiàn)在發(fā)現(xiàn)噪音比以前大很多，這是什么原因？

 

    答：立式低溫恒溫槽前面提到過水循環(huán)的日常維護工作，這個問題也與之有關。大家都知道，水里面有很少部分的雜質，就是蒸餾水在加到水箱后也不可能*保證一點雜質都沒有。對于水循環(huán)而言，一般溫度都設置在20℃，特別適應微生物的生長和繁衍。時間長了以后這些微生物就會堵塞水路的過濾器造成回水不暢，水泵就會有較大的噪音。有時這些微生物附在了換熱器的表面，造成換熱器的傳熱效果變差，制冷量變小。所以一定要嚴格按照說明書中的要求做好日常維護工作，定時清洗內槽，長期停用，保持槽內干燥。水循環(huán)里面好像有漏水，有時地面一會兒就有幾滴，是不是水路上有地方泄漏？ 一般來說在正常使用的過程中，水路是不會有泄漏的。在環(huán)境溫度比較高空氣中的相對濕度又太大時，在水循環(huán)的水路中的水泵、水管接頭、外接水管處容易凝結露水，累積多了以后就滴到地面上了，不用擔心是水路中有漏水的地方。如果您對這很介意的話，立式低溫恒溫槽打開空調降低房間溫度或是除濕都可以避免露水的產(chǎn)生。

 

    超低溫恒溫槽使用軟件數(shù)字鎖定控制系統(tǒng)各項設置值，避免無關人員進行誤操作，保證實驗過程數(shù)據(jù)正確無誤；準確的溫度控制，使工作槽內溫度快速穩(wěn)定；按“電源”鍵可關掉儀器所有功能，但儀器還能顯示槽內 溫度自然升、降的過程。

 

    超低溫恒溫槽全封閉壓縮機制冷，降溫速度快，具有過熱過電流等多重保護，先進的內循環(huán)和外循環(huán)系統(tǒng)，內循環(huán)使溫度均勻穩(wěn)定，外循環(huán)泵輸出的流量恒溫液體去建立機外第二恒溫場，還可作為冷源去冷卻機 外實驗容器。在實驗室中，建立一個冷熱受控，溫度均勻恒定的液體環(huán)境我們需要低溫恒溫槽，建立一個直接加熱或制冷，或輔助加熱或制冷的溫度源我們需要低溫恒溫槽。超低溫恒溫槽作為實驗室常規(guī)儀器，已經(jīng)很普遍的出現(xiàn)在 我們的實驗室等場所，對實驗樣品或生產(chǎn)的產(chǎn)品經(jīng)行恒定的溫度控制或測試。

 

    在目前，國內的超低溫恒溫槽已經(jīng)取得了很大的發(fā)展和進步，從溫控程序的升級到控溫精度的提高，到儀器材質的選用都有很大程度上的提升，相比于一些進口品牌，有許多國產(chǎn)的超低溫恒溫槽質量也有的一拼。

 

    1、在控溫精度，未來的趨勢肯定是越來越，目前許多低溫恒溫槽的精度都可達到±0.1，恒溫槽可達到±0.05，相比現(xiàn)在的技術和科技，未來的控溫精度還會有更高的提升。

 

    2、在儀器的使用材質上，目前低溫恒溫槽采用的大都是不銹鋼材質，不銹鋼具有耐酸耐堿，耐腐蝕的作用，可以讓滿足實驗室強酸強堿的實驗需求，但使用儀器時需要及時清理儀器，長時間不使用要將儀器清洗干  凈，放在通風的地方。以保護儀器的使用壽命。在未來，或許會采用新的材質取代現(xiàn)有的不銹鋼材質，因為實驗會遇到各種各樣的物質。

 

    3、在立式低溫恒溫槽的程序控溫開發(fā)上，會有很大的改進，現(xiàn)有的低溫恒溫槽一般都是采用多段程序控溫，以便達到需要的低溫環(huán)境，未來或許會有更好的程序達到這種效果。